Others Full Face Erosion 관련 질문

2008.12.16 08:24

이태성 조회 수:19466 추천:193

안녕하세요.
Full face erosion 관련 자료를 찾던 중 이곳까지 오게되었습니다. 인터넷검색으로는 자료를 찾을수가 없어서
이렇게 글을 올립니다.

high deposition rate가능, long time process가능, 간단한 process control
등의 장점은 대충 알고 있으나, 어떠한 구조인지, 어떠한 원리로 위의 장점들이 가능한지,
단점은 무엇인지, 기존 sputter와 차이점 등등 FFE에 대한 자세한 내용을 알고싶습니다.

답변해 주시면 정말 많은 도움이 될 것같습니다.
자료를 올려주셔도 괜찮습니다 ^^;;;
사회초년생으로서 배울것이 너무 많은것 같네요.
염치없지만 부탁드립니다 ㅠ.ㅠ      

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77228
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68903
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92951
346 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1876
345 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1837
344 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1836
343 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1818
342 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1793
341 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1780
340 터보펌프 에러관련 [1] 1779
339 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1729
338 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1726
337 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1715
336 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1713
335 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1710
334 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1699
333 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1694
332 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1691
331 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1681
330 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1651
329 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1642
328 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1625
327 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1599
쓰기
태그

Boards

XE Login