ESC Dry Etcher 내 reflect 현상

2009.08.07 13:39

김기권 조회 수:22272 추천:209

안녕하세요 저는 Dry Etcher 네 세라믹 Coating Type 정전척 ESC 만드는 회사에 다니고 있습니다.
다름이 아니라 고객사에서 Dry Etcher 장비 의 Reflect현상이 발생했다고 하는데 , 이현상에 대해 설명 부탁드립니다.
아울러 이 현상과 ESC 연관성에 대해서도 설명 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77240
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68903
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92951
346 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1876
345 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1839
344 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1837
343 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1818
342 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1793
341 터보펌프 에러관련 [1] 1781
340 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1780
339 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1729
338 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1726
337 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1715
336 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1713
335 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1710
334 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1699
333 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1694
332 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1691
331 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1681
330 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1651
329 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1642
328 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1625
327 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1599

Boards


XE Login