개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:57204 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76888
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20285
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57204
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68758
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92716
379 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1034
378 고진공 만드는방법. [1] 1015
377 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 425
376 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 695
375 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1321
374 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 469
373 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 763
372 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5926
371 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2732
370 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3444
369 활성이온 측정 방법 [1] 574
368 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1469
367 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2248
366 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1763
365 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2332
364 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1972
363 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1878
362 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 812
361 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1143
360 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1308

Boards


XE Login