지금 모기업에서 인턴을 하면서 CVD파트에 대해서 공부를 하고있습니다.

PECVD를 과정에서 플라즈마의 균일도가 중요 하다고 합니다.

이때 어떠한 변수들이 플라즈마의 균일도에 영향을 주는지 궁급합니다.

 

이와더불어 N2플라즈마와 수소플라즈마의 차이점에 대해서 알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77093
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20400
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57310
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68852
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92864
521 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1346
520 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1358
519 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1360
518 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1373
517 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1376
516 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1390
515 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1394
514 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1396
513 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1396
512 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1398
511 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1410
510 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1410
509 플라즈마 관련 교육 [1] 1421
508 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1424
507 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1429
506 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1429
505 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1440
504 MATCHER 발열 문제 [3] 1443
503 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1445
502 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1447

Boards


XE Login