OES 자료 요청드립니다.

2014.06.12 01:00

ringring 조회 수:6214

안녕하세요?

삼성반도체에서 식각 공정 OES 평가 업무를 하고 있습니다.

진공학회에서 OES자료를 찾다가  필요한 부분이 있어 자료 요청드립니다.

제목 : 광진단을 통한 플라즈마 공정 상태 변동 메커니즘 분석  


진공학회 및 DB PIA에서는 1page만 있어  Full ver.이  필요합니다.

참고로 구매를 했는데도 1page만 보이고 있어 메일로 요청드립니다.


이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77216
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68901
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92947
326 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5974
325 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 6008
324 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 6102
323 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6120
» 자료 요청드립니다. [1] 6214
321 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6317
320 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6317
319 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6327
318 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6374
317 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6413
316 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6422
315 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6467
314 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6468
313 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6479
312 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6504
311 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6515
310 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6543
309 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6573
308 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6716
307 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6827
쓰기
태그

Boards

XE Login