OES 자료 요청드립니다.

2014.06.12 01:00

ringring 조회 수:6209

안녕하세요?

삼성반도체에서 식각 공정 OES 평가 업무를 하고 있습니다.

진공학회에서 OES자료를 찾다가  필요한 부분이 있어 자료 요청드립니다.

제목 : 광진단을 통한 플라즈마 공정 상태 변동 메커니즘 분석  


진공학회 및 DB PIA에서는 1page만 있어  Full ver.이  필요합니다.

참고로 구매를 했는데도 1page만 보이고 있어 메일로 요청드립니다.


이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76898
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20293
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57209
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68761
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92719
319 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1552
318 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1539
317 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1536
316 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1527
315 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1525
314 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1514
313 charge effect에 대해 [2] 1481
312 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1476
311 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1475
310 ICP lower power 와 RF bias [1] 1473
309 알고싶습니다 [1] 1471
308 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1469
307 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1469
306 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1468
305 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1466
304 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1460
303 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1457
302 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1455
301 Ar plasma power/time [1] 1447
300 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1446
쓰기
태그

Boards

XE Login