안녕하세요 현재 2차원물질 공정을 연구하는 석사과정 대학원생입니다.

이 공정중에는 플라즈마 처리가 있는데요

power가 커짐에 따라 챔버내부의 빛도 밝아지는 것을 볼수 있는 반면에

압력을 30에서 120mTorr으로 증가시켰을때는 어두워지는 것을 관찰하였습니다.

power와 마찬가지로 압력도 밝기에 비례할것이라고 예상하였는데 어떤 이유가 있는지 궁금합니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76888
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20285
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57204
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68758
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92714
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2265
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 17694
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1077
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3720
515 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 590
514 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10463
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 811
512 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 772
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19787
510 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 848
509 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3659
508 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1040
507 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1248
506 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 3015
505 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 548
504 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1627
503 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1986
502 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 11497
501 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2367
500 공정플라즈마 [1] 1160

Boards


XE Login