반도체 장비업체에서 일하고 있는 사람입니다.

전기, 전자 전공으로 최근에 Plasma에 관심이 생겨서 공부하고 있습니다.


DC Plasma에서 전자방출 메커니즘이 여러가지가 있는 것으로 알고 있습니다.


타운센트 방전 이론에 의한 알파, 감마 작용는 이해가 가는데,

1. 플라즈마 내부 광자에 의한 음극에서의 이차 전지 방출(Photoemission)

2. 준안정(metastable) 종이 음극을 때릴 때 이차 전자 방출

위의 두가지가 무엇을 의미하는지 잘 모르겠습니다.


알고계시는 선배님들 알려주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76978
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20332
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57251
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68800
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92795
421 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1197
420 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 518
419 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1072
418 RF 변화에 영향이 있는건가요? 17513
417 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 471
416 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 854
415 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 710
414 etching에 관한 질문입니다. [1] 2278
413 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3450
412 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5701
411 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5492
410 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 485
409 Si Wafer Broken [2] 2549
408 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1442
407 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1332
406 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 944
405 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2350
404 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 26227
403 Collisional mean free path 문의... [1] 795
402 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2352

Boards


XE Login