Others RPC CLEAN 시 THD 발생
2018.10.25 14:48
안녕하세요 반도체 장비업체에서 일하고 있는 사람입니다.
현재 저희 설비에 2개의 CHAMBER가 달려 있습니다. RPC CLEAN을 사용하는 장비인데
두 CH가 동시에 CLEAN이 동작하게되면 공급단 POWER 관련하여 지속적인 ERROR 가 발생을 합니다.(따로 진행시 문제 없음)
고조파 측정시 2개의 CH가 동시에 CLEAN 진행시 높아지는 현상을 발견 하였으나, 그 원인을 찾기 힘들어 질문 드립니다.
POWER CABLING이 의심 되는 상황이나, CABLE 길이 및 위치, 혹은 말림 정도가 영향이 있는지 문의 드리고, 혹시 이 외에 다른 원인을 추측할만한 내용이 있을지 질문 드립니다.
현재 CABLE 연결 상태 및 POWER SUPPLY(설비단) 교체 등 다른 방법을 진행 해 보았으나, 현상이 동일하게 발생하여 설비단 보다는 공급단쪽 POWER를 의심하고 있는 상태 입니다.
혹시 이 글과 관련된 경험이 있으신분은 답변 부탁 드리겠습니다.
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] | 77156 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20437 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57342 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68884 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92912 |
582 | ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. | 16968 |
581 | ICP 식각에 대하여... | 16937 |
580 | 플라즈마 처리 | 16936 |
579 | Virtual Matchng | 16857 |
578 | sputter | 16853 |
577 | nodule의 형성원인 | 16767 |
576 | 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] | 16674 |
575 | 몇가지 질문있습니다 | 16582 |
574 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 16518 |
573 | 플라즈마의 어원 | 16348 |
572 | 궁금해서요 | 16321 |
571 | 궁금합니다 [1] | 16179 |
570 | 공정검사를 위한 CCD 카메라 사용 | 16082 |
569 | 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] | 16050 |
568 | 핵융합과 핵폐기물에 대한 질문 | 16023 |
567 | 역 수소폭탄에 대하여... | 16009 |
566 | k star | 15957 |
565 | ICP TORCH의 냉각방법 | 15921 |
564 | Sputter | 15901 |
563 | corona | 15894 |
제 생각에는 2개의 chamber가 cross talk을 하는 것 같습니다. Rf shield 와 ground 부분의 강화가 필요하지 않을까 합니다만,
경험자 및 전문가의 의견을 기다리겠습니다.