이제 막 플라즈마에 대해 공부하고 있는 학생입니다.

산소와 아르곤 플라즈마를 이용해 물질을 처리하려고 하는데요

실험전에 아르곤플라즈마와 산소플라즈마를 조금씩 섞어줄 떄 온도 변화를 먼저 측정해 봤었는데요

산소를 섞어줄수록 중심으로부터 안테나부근의 온도들은 아르곤만 있었을 때보다 떨어졌으나

거의 챔버의 끝에서는 오히려 산소플라즈마를 섞은 것이 온도가 더 높게 측정되었습니다..

이유가 무엇일까요..?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77107
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20405
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57315
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68855
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92870
441 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3561
440 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3519
439 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3474
438 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3458
437 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3456
436 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3450
435 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3405
434 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3364
433 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3339
432 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3339
431 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3289
430 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3261
429 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3231
428 CVD 공정에서의 self bias [1] 3181
427 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3179
426 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3167
425 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3066
424 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 3035
423 Plasma etcher particle 원인 [1] 3032
422 RF matcher와 particle 관계 [2] 3008

Boards


XE Login