Sputtering 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다.

2019.03.04 10:48

대구한밭 조회 수:1433

안녕하세요.

PECVD로 탄소 박막을 합성하고, 표면을 Oxide 시키기 위해 plasma asher로 200W/30 min 동안

처리하였는데 반응이 없어 다른 방법을 모색중입니다.

그래서 스퍼터로 가능할까 싶어서 궁금증을 여기에 풀어 봅니다.

보통 O2/N2는 반응성 스퍼터링에 사용되는 것으로 알고 있습니다.

혹시나, (1) Ar 대신 O2 or N2만 주입해도 플라즈마가 형성이 가능한가요?

그리고 (2) 타겟없이도 플라즈마가 뜨는가요?

이 두 부분이 궁금합니다.

생뚱맞는 질문일수도 있지만,

답변 부탁드립니다.

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77216
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68901
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92947
486 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1545
485 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1551
484 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1556
483 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1572
482 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1573
481 plasma 형성 관계 [1] 1583
480 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1598
479 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1625
478 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1642
477 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1650
476 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1681
475 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1691
474 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1691
473 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1698
472 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1705
471 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1712
470 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1714
469 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1726
468 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1728
467 터보펌프 에러관련 [1] 1777
쓰기
태그

Boards

XE Login