안녕하십니까 교수님. 플라즈마를 공부하면서 생긴 궁금증으로 인해 질문드립니다.
아래 첨부된 그림파일과 같은 회로에서 임피던스 매칭 회로의 구동원리는 어떻게 되는지요?
임피던스 매처에서 만약 X<0인 capacitive 인 경우 , X>0인 inductive인 경우 각각 임피던스 매칭회로의 변화는 어떻게 되는지 궁금합니다.
항상 감사드립니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 76971 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20329 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57247 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68798 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92791 |
| 521 |
CCP 챔버 접지 질문드립니다.
[1]  | 1343 |
| 520 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1353 |
| 519 | Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] | 1358 |
| 518 | low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] | 1371 |
| 517 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1373 |
| 516 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1380 |
| 515 | [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] | 1382 |
| 514 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1388 |
| 513 | Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] | 1393 |
| 512 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1394 |
| 511 | 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] | 1396 |
| 510 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1398 |
| 509 |
dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!!
[1] | 1409 |
| 508 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1418 |
| 507 | OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] | 1421 |
| 506 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1422 |
| 505 |
poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
| 1427 |
| 504 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1439 |
| 503 | MATCHER 발열 문제 [3] | 1441 |
| 502 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1442 |
RF 전원을 안테나 (ICP) 혹은 전극 (CCP/RF bias)에 인가시키기 위해서는 reactance term을 소거하여야 전원으로 부터 전달되는 전자기파를 온전히 안테나 및 전극으로 보낼 수가 있고, 이를 impedance matching이라 합니다. 소거 방법은 reactance의 위상차를 이용하는 방법으로 inductive reactance 와 capative reactace 간의 180도 위상차를 활용하면 상호 직렬연결시키면 소거를 시킬 수가 있겠습니다. 혹은 같은 reactance 로는 직병렬회로 연결을 통해서 소거가 가능합니다. 해당 내용은 전기공학의 회로 이론을 보면 참고가 수월할 것이며, 본 게시판에서 impedance matching 에 대한 설명을 참고하시면 도움이 될 것 같습니다.