Remote Plasma remote plasma 데미지 질문
2020.04.18 19:32
안녕하세요
반도체 공부하고 있는 학생입니다
반도체 관련 논문을 읽다 모르는 것이 있어 질문드립니다
remote plasma 경우 소스와 타겟 물질의 거리가 멀어 direct plasma 보다 플라즈마 데미지가 낮다고 하는데,
제가 알기로는 거리가 멀면 mean free path가 길어지고 플라즈마가 가속되어 에너지가 더 큰 것으로 알고 있습니다
그럼 충돌에너지가 커서 데미지가 더 커지는거 아닌가요..?
자세한 답변 부탁드립니다 감사합니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77095 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20402 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57311 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68852 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92867 |
| 561 | 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] | 1128 |
| 560 | RF 반사파와 이물과의 관계 [1] | 1137 |
| 559 | Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] | 1142 |
| 558 | 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. | 1146 |
| 557 | 자기 거울에 관하여 | 1146 |
| 556 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1146 |
| 555 | wafer bias [1] | 1150 |
| 554 | 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] | 1150 |
| 553 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1153 |
| 552 | 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] | 1153 |
| 551 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1157 |
| 550 |
전자 온도 구하기
[1]  | 1162 |
| 549 | 공정플라즈마 [1] | 1166 |
| 548 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1168 |
| 547 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1175 |
| 546 | 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] | 1180 |
| 545 |
O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의
| 1180 |
| 544 | Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] | 1189 |
| 543 | 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] | 1198 |
| 542 | ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] | 1202 |
본 게시판의 DC glow discharge와 Breakdown 조건에 대해서 살펴 보세요. 리모트 플라즈마는 소스(생성부)의 플라즈마를 처리챔버(처리부)로 확산시켜 사용하는 장치, 즉 소스가 멀리 떨어져 있는 경우이며, 확산시 이온화는 소스부에서 만들어진 전자 에너지에 관계하며, 처리부 플라즈마는 상대적으로 낮은 밀도, 낮은 온도의 플라즈마가 필요한 공정에 적용되는 장비 플라즈마의 특성을 가집니다.