Plasma Source 플라즈마 챔버
2021.03.18 20:01
안녕하십니까. 반도체 업체에 근무하고 있는 회사원입니다.
다름이 아니라 플라즈마에 챔버에 대해 질문이 있어 이렇게 글을 올립니다.
플라즈마 챔버 설계를 진행하려 합니다.
혹시....... Gas를 NF3를 사용하게 되면 스테인리스 챔버로 제작를 진행해도 괜찮을까요?
아니면 알루미늄 챔버로 제작을 해야 하나요?
위 두가지 챔버 제작의 경우 사용 불가한 이유가 있으면 알고 싶습니다.
너무 궁긍하여 글을 올립니다.
답변 부탁드립니다.
댓글 2
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [293] | 77384 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20521 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57462 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68988 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 93011 |
| 533 | ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] | 1293 |
| » | 플라즈마 챔버 [2] | 1304 |
| 531 | 플라즈마 기초입니다 [1] | 1305 |
| 530 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1310 |
| 529 | 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] | 1313 |
| 528 | 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] | 1332 |
| 527 | [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] | 1332 |
| 526 | DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] | 1347 |
| 525 | 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] | 1352 |
| 524 | I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] | 1353 |
| 523 |
CCP 챔버 접지 질문드립니다.
[1]  | 1354 |
| 522 | Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] | 1383 |
| 521 | low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] | 1385 |
| 520 | Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] | 1386 |
| 519 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1390 |
| 518 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1394 |
| 517 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1400 |
| 516 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1407 |
| 515 |
dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!!
[1] | 1414 |
| 514 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1415 |
챔버 재료 선택에 앞서 처리 대상인 공정을 좀 더 면밀하게 조사사실 필요가 있어 보입니다. 일반적으로는 식각 공정에 metal을 직접 노출시키지는 않으며 Al 챔버를 사용하는 이유는 열팽창/수축에 유리하기 때문입니다. 따라서 Al2O3 coating을 한 내벽 shroud 을 장착합니다. 화학반응+내열조건에 대해서 반드시 고려하셔야 하고, 진공 seal 과 전기적 접촉도 중요하다고 알고 있습니다. 참고가 되었으면 합니다.