Others N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점

2022.05.12 00:29

윤태화 조회 수:1516

안녕하세요. 반도체회사에서  PECVD 장비를 하고있는 윤태화입니다.

 

GAS 종류에 따른 Plamsa 진행시 차이점이 있는지 궁금합니다.

 

1. N2 Gas 로 Plasma 진행 시 장단점

2. N2O Gas 로 Plasma 진행 시 장단점

3. N2 / N2O  두 Gas의 Plasma 차이점 

4. N2 및 N2O GAS 사용으로 Plasma 4~5분 노출 시 챔버 내부 변색 가능성? 한두달 뒤 변색이 될 가능성..

 

위 4개 질문드립니다. 

 

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77223
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68903
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92950
286 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1370
285 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1366
284 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1350
283 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1345
282 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1340
281 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1328
280 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1327
279 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1323
278 플라즈마 기초입니다 [1] 1301
277 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1298
276 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1294
275 플라즈마 챔버 [2] 1286
274 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1284
273 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1271
272 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1263
271 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1261
270 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1254
269 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1239
268 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1237
267 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1227
쓰기
태그

Boards

XE Login