RIE(13.56Mhz) 설비 SET UP 도중 압력 0.2 Torr Gas SF6 30 Sccm 공정 조건에서 Matcher가 Matching position 을 잡지 못하고 흔들리는 현상으로 Matcher circuit에 Low pass filter 장착 후 그 현상이 사라 졌습니다.

혹시 이 현상에 대한 원리에 대해 답변 주시면 너무 감사하겠습니다.

RF 300W 기준입니다. 부탁드리겠습니다.

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77308
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20506
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57415
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68954
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92989
750 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24446
749 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24400
748 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24225
747 self Bias voltage 24143
746 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24127
745 plasma and sheath, 플라즈마 크기 24007
744 플라즈마 쉬스 23995
743 Arcing 23892
742 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23800
741 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23490
740 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23446
739 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23352
738 DC glow discharge 23289
737 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23286
736 고온플라즈마와 저온플라즈마 23210
735 No. of antenna coil turns for ICP 23149
734 CCP/ICP , E/H mode 23129
733 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23128
732 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22960
731 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22870

Boards


XE Login