안녕하세요. ETCH 쪽에서 ENG'R로 근무중인 현직자입니다.

 

업무 중 궁금점이 생겨 간단하게나마 공부 후 질문내용 정리하여 문의드립니다.

 

상황
ICP 설비에서 BIAS REFLECT POWER를 줄이기 위하여 RF FREQUENCY TUNE을 이용한 상황입니다.
FREQUENCY TUNE을 사용하면 임피던스 Z가 변하면서 REFLECT POWER가 변하며, FORWARD POWER는 임피던스 Z와 Vpp에 영향을 받는 것으로 알고 있습니다.


질문
  1. 현재 설비는 VOLTAGE MODE를 사용중인데, 이때 Generator에서 인가하는 Voltage가 Vgen이라고 하면 BIAS RF VOLTAGE = Vgen = Vpp 동일한 값을 가지는지 궁금합니다.

 

  2-1 동일하다면, VOLTAGE MODE에서는 FREQUENCY 가변을 하게되면 임피던스의 변화에 따라 BIAS FORWARD POWER가 변한다는 가정이 옳다고 볼 수 있을까요?

  2-2 FORWARD POWER가 변한다는 가정하에, REFLECT POWER 역시 변할텐데, 결과적으로 LOAD POWER도 같이 변할 것으로 생각되는데 해당 가설이 적절한가요?
 
  3. POWER MODE에서는 FORWARD POWER가 SET된 값으로 인가되기때문에 RF Frequency 가변에 따라 Vpp값도 변하여 Forward POWER는  일정한게 맞을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [293] 77384
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20521
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57462
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68988
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93011
613 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 865
612 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 871
» RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 871
610 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 872
609 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 876
608 문의 드립니다. [1] 888
607 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 891
606 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 902
605 Self bias 내용 질문입니다. [1] 903
604 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 909
603 Plasma Generator 관련해서요. [1] 917
602 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 921
601 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 922
600 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 927
599 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 942
598 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] 945
597 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 948
596 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 948
595 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 951
594 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 970

Boards


XE Login