Plasma in general RF 주파수에 따른 차이점
2023.10.12 16:38
안녕하세요 인터넷에 아무리 찾아도 명확한 답을 찾을 수 없어서 가입 후 글을 남깁니다.
보통 RF 주파수라고 하면 13.56MHz 를 주로 쓰지만 공정에 따라 27.12MHz, 40.68Hz, 60MHz 도 사용하는걸로 알고 있습니다
그런데 왜 13.56MHz 의 2배수인 27.12MHz, 3배수인 40.68MHz 를 정하여 사용하는지 알고싶습니다
또 2배수, 3배수를 사용하지 않았을때의 현상도 추가적으로 궁금합니다.
기본적이고 원초적인 질문 일수 있지만 명확한 해답을 알고 싶어 글 남깁니다
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [284] | 77284 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20486 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57404 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68931 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92985 |
769 | FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 | 212 |
768 | CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] | 216 |
767 | AP plasma 공정 관련 문의 [1] | 219 |
766 | 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] | 226 |
765 | 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] | 230 |
764 | CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] | 232 |
763 | skin depth에 대한 이해 [1] | 234 |
762 | 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] | 239 |
761 | Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] | 252 |
760 | Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] | 255 |
759 | Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] | 263 |
758 | GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] | 266 |
757 | 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] | 275 |
756 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 277 |
755 | 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] | 280 |
754 | gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] | 286 |
753 | RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] | 292 |
752 | Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] | 297 |
751 | 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] | 305 |
750 | RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] | 317 |
좋은 질문입니다.
현재 언급하신 주파수는 산업용 RF 장치로 허용된 주파수이며, 규정은 FCC (Federal Communication Commissions: https://www.fcc.gov/)에 따릅니다.
하지만 RF 주파수 선택은 만들어진 plasma의 특성, 즉 ion plasma frequency, electron plasma frequency를 기준으로 선택하게 됩니다. 관련된 주파수는 전자 충돌 주파수, 이온충돌 주파수이며 자기장 환경에서는 ion gyrofrequency 및 electron gyrofrequency 가 주파수 선택의 기준이 됩니다.
RF 기준은 플라즈마 이온, 전자 주파수로 부터 시작하면 좋습니다. 관련 현상에 대해서 본 게시판에 설명이 되어 있으니 참고하시기 바랍니다.