안녕하세요. 플라즈마 관련 대학원 재학 중인 석사과정입니다.

Dual frequency CCP에 대해 공부하다가 궁금한 점이 생겨 문의를 드리게 되었습니다.

1. 식각 실험에 DF CCP를 사용한 논문을 보면,

1) Top, Bottom 각각 HF, LF power를 연결한 구조

2) Top 혹은 Bottom에 HF, LF 모두를 연결한 구조가 있는데,

이 두 구조 간에 유의미한 차이점이 있는지 궁금합니다.

2. 흔히 CCP에서 HF는 plasma generation(ex. ion flux) LF는 ion energy에 관여한다고 배웠습니다.

그런데 HF power가 ion energy에는 큰 영향이 없는지 ion이 floating potential (Vp-Vf)만큼의 에너지를 가지는지 궁금합니다.

ICP type은 Antenna에 걸어주는 Source power와 ESC에 걸어주는 Bias power가 각각 다르게 작용하는 것이 납득이 되었는데요.

CCP의 경우 HF든 LF든 plasma와 마주 보는 극판에 전력을 인가하는 것인데 HF가 ion energy를 더 올리지는 않을까 하는 의문이 들어 질문 드립니다.

감사합니다.