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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력]
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플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [플라즈마 표면 반응]
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RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다.
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613 |
CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [Plasma information variable model]
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612 |
라디컬의 재결합 방지 [해리 반응상수]
[1] | 1214 |
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LF Power에의한 Ion Bombardment [플라즈마 장비 물리]
[2] | 2994 |
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610 |
PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단]
[1] | 2185 |
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전자 온도 구하기 [쉬스 전압, 스퍼터링 효과]
[1]  | 1729 |
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608 |
공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [Rise rate]
[1] | 579 |
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607 |
CVD 공정에서의 self bias [이차 전자 생성, 입사 이온 에너지 분포]
[1] | 4346 |
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606 |
PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [소수/친수성 조절 연구]
[1] | 3665 |
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잔류시간 Residence Time에 대해 [표면 유속 정보, 유체해석 코드]
[1] | 1815 |
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604 |
공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
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603 |
ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의
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공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [Chamber impedance]
[2] | 1525 |
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601 |
CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias]
[1] | 1506 |
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600 |
Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [플라즈마 생성 분포와 sheath 전기장]
[1] | 2754 |
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Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련 [Sheath 전위 형성]
[3] | 4099 |
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598 |
매칭시 Shunt와 Series 값 [RF 전원 전력 전달 및 Load/Tune 계산]
[1] | 3073 |
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597 |
RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다 [고주파 플라즈마 반응 특성]
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