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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [나노광전자 데이터 분석]
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플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [나노 분말 생성 및 제어 연구]
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ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [ECRiS]
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Interlock 화면.mag overtemp의 의미
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플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [오존발생기]
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연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술]
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O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의
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ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [ESC, 쉬스 전기장 및 bias 전력 조절]
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연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어]
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압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [플라즈마 임피던스, 운전압력조절 방전 조건]
[1] | 2044 |
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플라즈마볼 제작시 [전기장 형성 및 플라즈마 방전]
[1] | 2659 |
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안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스]
[1] | 2875 |
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Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰]
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Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링]
[2] | 3606 |
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좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도]
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알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터]
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교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode]
[2] | 2685 |
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Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground]
[2] | 1358 |
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555 |
안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지]
[2] | 1055 |
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554 |
Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [웨이퍼 근방 쉬스 특성, Edge ring]
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