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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information]
[1] | 2078 |
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527 |
KM 모델의 해석에 관한 질문 [Self bias와 ambipolar diffusion]
[1] | 617 |
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526 |
remote plasma 데미지 질문 [DC glow discharge와 Breakdown]
[1] | 14716 |
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525 |
RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage]
[3] | 2226 |
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524 |
Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance]
[1] | 1653 |
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523 |
안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [Bias power]
[1] | 7699 |
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522 |
산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD]
[1] | 1349 |
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521 |
플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [PMI]
[2] | 1386 |
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520 |
Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor]
[3] | 4484 |
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519 |
ECR 플라즈마에 대해서 질문드립니다. [ECR과 uniformity]
[1] | 2751 |
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518 |
Plasma Dechuck Process가 궁금합니다.
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517 |
HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정]
[1] | 1258 |
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Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset]
[1] | 4010 |
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515 |
간단한 질문 몇개드립니다. [공정 drift와 database]
[1] | 723 |
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514 |
matcher에서 load, tune의 역할이 궁금합니다. [Matcher와 impedance]
[1] | 11598 |
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513 |
Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리]
[1] | 993 |
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512 |
Hollow Cahthode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [장치 setting과 전극재료]
[1]  | 959 |
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511 |
에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
[1] | 19942 |
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510 |
매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [RF plasma와 circuit model]
[1] | 1006 |
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509 |
ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [Etch와 IEDF]
[2] | 3982 |
