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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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matcher에서 load, tune의 역할이 궁금합니다. [Matcher와 impedance]
[1] | 12658 |
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Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리]
[1] | 1218 |
512 |
Hollow Cahthode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [장치 setting과 전극재료]
[1] | 1055 |
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에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
[1] | 20049 |
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매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [RF plasma와 circuit model]
[1] | 1102 |
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ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [Etch와 IEDF]
[2] | 4224 |
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진학으로 고민이 있습니다. [복수전공]
[2] | 1343 |
507 |
플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [Skin depth, global model과 floating potential]
[2] | 1561 |
506 |
Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [Flow rate와 moral ratio, resident time]
[1] | 3753 |
505 |
전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [핵융합 연구소]
[1] | 796 |
504 |
ICP reflecot power [Insulator와 rf leak]
[1] | 2063 |
503 |
압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [MFC와 residence time]
[1] | 2611 |
502 |
Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [ESC와 matcher]
[1] | 14137 |
501 |
Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [Step ionization, Dissociative ionization]
[1] | 3059 |
500 |
공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식]
[1] | 1470 |
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임피던스 매칭회로 [전기공학 회로 이론 및 impedance matching]
[1] | 3360 |
498 |
전쉬스에 대한 간단한 질문 [Debye length 및 sheath 형성]
[1] | 858 |
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CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry]
[3] | 2108 |
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glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [고전압 방전 및 DBD]
[2] | 2088 |
495 |
plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [Child-Langmuir sheath model]
[2] | 4437 |