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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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372 |
SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [ER과 energy transport]
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371 |
플라즈마 압력에 대하여 [Glow discharge와 light]
[1] | 2922 |
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370 |
RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [Arc와 cleaning]
[1] | 3971 |
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369 |
활성이온 측정 방법 [한국 기계 연구소 송영훈 박사팀]
[1] | 762 |
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368 |
rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning]
[1] | 1688 |
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367 |
Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load]
[1] | 2658 |
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366 |
ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition]
[1] | 2057 |
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365 |
sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [Sputter와 sheath, flux]
[1] | 2649 |
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364 |
Remote Plasma가 가능한 이온 [Remote plasma와 diffusion]
[1] | 2538 |
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363 |
CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [Wafer bias와 chuck cap]
[1] | 2086 |
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362 |
DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [DBD와 "industrial plasma engineering"]
[1] | 1128 |
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안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다.
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360 |
플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요 [RF power와 power factor]
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359 |
DC bias (Self bias) ["Glow discharge processes"]
[3] | 11909 |
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358 |
ICP와 CCP의 차이 [Self bias와 Maxwellian distribution]
[3] | 12966 |
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357 |
새집 증후군 없애는 플러스미- 플라즈마에 대해서 [광운대 플라즈마바이오연구센터]
[1] | 1024 |
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356 |
RF FREUNCY와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [CCP와 ionization]
[1] | 2192 |
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355 |
Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [Self bias와 matcher]
[1] | 9736 |
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354 |
수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [MFC와 H2 gas retention]
[3] | 3209 |
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353 |
ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [Ion energy와 heat, sheath energy]
[2] | 2311 |
