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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해]
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774 |
내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링]
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773 |
Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어]
[1] | 1743 |
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772 |
RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power]
[1] | 462 |
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771 |
CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정]
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770 |
파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [Matcher 기능]
[2] | 1062 |
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769 |
스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다
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768 |
Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수]
[1] | 734 |
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767 |
챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식]
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766 |
RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭]
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765 |
FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석
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764 |
플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [전자 충돌 현상 및 입자 충돌 현상]
[1] | 595 |
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763 |
ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [플라즈마 생성 반응]
[1] | 738 |
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762 |
AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석]
[1] | 498 |
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761 |
Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료]
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760 |
PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher]
[2] | 1279 |
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759 |
Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해]
[1] | 1778 |
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758 |
DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [상압플라즈마 소스]
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757 |
CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계]
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756 |
플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [Bactericidal 이해]
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