|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[337]
| 109495 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 27037 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 64175 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 75962 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 109901 |
|
55 |
스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 [Capacitance와 DC ripple]
| 18228 |
|
54 |
Noise 문제, 탐침에 의한 식각 플라즈마의.. [RF ground와 Cl Plasma]
| 19894 |
|
53 |
self bias [Capacitor와 mobility]
[1] | 19883 |
|
52 |
rotational vibration excitation [TLD와 IRLAS]
| 18379 |
|
51 |
플라즈마 matching [Heating mechanism, matching]
| 20617 |
|
50 |
DBD란
| 28201 |
|
49 |
ccp-icp
| 22095 |
|
48 |
플라즈마의 상태
| 14271 |
|
47 |
플라즈마와 자기장의 관계
| 29249 |
|
46 |
충돌
| 18003 |
|
45 |
유전체 플라즈마
| 17798 |
|
44 |
sputtering
| 18509 |
|
43 |
증착에 대하여...
| 18266 |
|
42 |
nodule의 형성원인
| 16992 |
|
41 |
물리적인 sputterting
| 18542 |
|
40 |
산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성
| 15258 |
|
39 |
물질내에서 전하의 이동시간
| 29528 |
|
38 |
CCP의 Vp가 ICP의 Vp보다 높은 이유
| 20220 |
|
37 |
Plasma potential이.. 음수가 될수 있나요?..
| 16152 |
|
36 |
에칭후 particle에서 발생하는 현상
| 9931 |
