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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Ashing 공정에 필요한 O2plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전자 충돌 이온화 반응 해리 반응 흡착 반응]
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메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마]
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안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [플라즈마 이온화 및 해리 반응, 반응기 벽면 세정]
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RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델]
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corona model에 대한 질문입니다. [준중성과 저압플라즈마]
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플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포]
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plasma 공정 중 색변화 [플라즈마 진단과 분광학]
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ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법]
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708 |
PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙]
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707 |
ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체]
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E-field plasma simulation correlating with film growth profile [플라즈마 확산과 밀도 분포]
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SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리]
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704 |
OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단]
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703 |
self bias [쉬스와 표면 전위]
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Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위]
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701 |
경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다.
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챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction]
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PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable]
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698 |
텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning]
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697 |
ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath]
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