Plasma in general Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성
2021.05.22 22:23
교수님 안녕하세요.
1.
http://pal.snu.ac.kr/index.php?mid=board_qna_new&category=67497&document_srl=78754
(Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate)
글 두번째 문단에 '다음으로 플라즈마 밀도를 제어하기 위해서 edge ring 혹은 confinement ring 등을 써서 플라즈마 확산을 줄이고 있습니다.'
부분에 대해 질문드립니다.
→ edge ring 혹은 confinement ring을 통해 "플라즈마 확산을 줄여" 플라즈마 균일하게 밀도를 제어한다는 말씀이신데,
두번째 문단 '가운데 밀도는 비교적 높고 가장자리로 가면서 밀도는 떨어지게 됩니다.'
→ 가장자리로 갈수록 플라즈마 밀도가 떨어지는데,
"플라즈마 확산을 늘려야" 플라즈마 밀도를 균일하게 제어할 수 있는 것이라 생각해 이에 대해 질문드리고 싶습니다.
2. Edge Ring이 플라즈마 밀도의 균일성을 높이는 원리를 설명해주실 수 있을까요?
항상 이 곳에서 많은 도움을 받고, 공부하고 있습니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77084 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20395 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57304 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68847 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92857 |
238 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 706 |
237 | 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] | 494 |
236 | Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] | 601 |
235 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1157 |
234 | Bias 관련 질문 드립니다. [1] | 3472 |
233 | Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] | 4860 |
232 | RF 전압과 압력의 영향? [1] | 1699 |
231 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1375 |
230 | standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1667 |
229 | 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] | 451 |
228 | ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] | 8757 |
227 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1358 |
226 | 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1020 |
225 | 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] | 1542 |
224 | 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] | 733 |
223 | CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] | 2023 |
222 | LF Power에의한 Ion Bombardment [2] | 2108 |
221 | 전자 온도 구하기 [1] | 1162 |
220 | 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] | 326 |
219 | CVD 공정에서의 self bias [1] | 3177 |