Sheath Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다.

2017.08.03 10:57

세종 조회 수:9539

안녕하세요. 

저희 장비에서 RF는 상부와 하부로 나뉘어져 있고 하부 쪽에서 Vpp가 측정됩니다. 보통 이것과 Ion energy를 비례하게 해석하던데, 어떻게 연결 지어야 하는지 궁금합니다.

장비 설명에서 Vpp는 RF Matcher의 Position으로부터 도출되는 것이라고 설명되있었습니다.

즉 하부에서 RF reflect가 존재해야 Vpp가 계산된다는 것인데, 이것으로 어떻게 Ion Energy를 예상하는지...

일반적으로 입사되는 Ion이나 전자의 전하 움직임을 Reflect로 해석하는 것인가요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77240
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68903
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92951
118 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1818
117 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1729
116 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1715
115 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1713
114 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1710
113 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1573
112 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1557
111 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1545
110 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1475
109 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1460
108 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1450
107 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1442
106 플라즈마 관련 교육 [1] 1433
105 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1404
104 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1394
103 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1378
102 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1371
101 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1328
100 플라즈마 기초입니다 [1] 1301
99 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1294
쓰기
태그

Boards

XE Login