Plasma in general Plasma Cleaning 관련 문의
2021.11.30 15:37
안녕하세요.
Plasma를 이용한 Cleaning 공부를 하고 있는 직장인 입니다.
Remote Plasma Asher 설비를 공부하고 있는데요,
PR Remove 시에는 O2 Gas를 사용하여 제거하는 것으로 알고있습니다.
C + O* → O2↑
여기서 O2를 Plasma로 방전시키고, N2 Gas를 Carrier gas로 사용하는데,
여기서 Carrier gas는 말 그대로 Radical을 이동시키는 역할만 하는 것인가요??
N2 Gas를 Carrier gas로 사용하는 이유가 궁금합니다.
추가로 Corrosion 방지를 위해 H2O Gas도 사용하는 것으로 알고 있는데요,
H2O 로 Corrosion을 방지하는 원리도 설명 부탁드립니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] | 76889 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20286 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57204 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68758 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92716 |
| 237 | 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] | 488 |
| 236 | Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] | 600 |
| 235 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1143 |
| 234 | Bias 관련 질문 드립니다. [1] | 3460 |
| 233 | Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] | 4847 |
| 232 | RF 전압과 압력의 영향? [1] | 1694 |
| » | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1367 |
| 230 | standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1652 |
| 229 | 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] | 451 |
| 228 | ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] | 8745 |
| 227 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1348 |
| 226 | 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1018 |
| 225 | 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] | 1539 |
| 224 | 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] | 724 |
| 223 | CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] | 2015 |
| 222 | LF Power에의한 Ion Bombardment [2] | 2084 |
| 221 |
전자 온도 구하기
[1]  | 1151 |
| 220 | 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] | 324 |
| 219 | CVD 공정에서의 self bias [1] | 3154 |
| 218 | 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] | 1137 |