Ion/Electron Temperature 플라즈마 발생 억제 문의
2012.03.19 14:12
안녕하십니까
플라즈마 발생을 억제시킬수 있는 방법은 무엇인지 어쭙고자 글을 올리게 되었습니다.
고주파 유도가열(3MHz)을 이용하여 실리콘(Si)을 가열하여 아르곤 분위기에서 실리콘 결정성장을 시키고 있습니다.
(코일은 팬케이크 형태임.)결정 성장을 시킬때 가끔씩 코일에 플라즈마가 발생하며,이로인해 코일arcing이 가끔 발생하여 코일이
소손되는것 같습니다.
플라즈마 발생을 억제시킬수 있는 방법이 없을지 문의 드립니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 76987 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20335 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57258 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68803 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92803 |
| 98 | MFP에 대해서.. [1] | 7831 |
| » | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8128 |
| 96 | Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? | 15891 |
| 95 | remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] | 22224 |
| 94 | cross section 질문 [1] | 19724 |
| 93 | RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] | 17746 |
| 92 | 반도체 관련 질문입니다. | 28580 |
| 91 | 질문 있습니다. [1] | 18368 |
| 90 | 질문이 몇가지 있읍니다. [1] | 19195 |
| 89 | 저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서... [1] | 21340 |
| 88 | 플라즈마내의 전자 속도 [1] | 21916 |
| 87 | Plasma Gas의 차이점 [1] | 18012 |
| 86 | TMP에 대해 다시 질문 드립니다. | 18016 |
| 85 | 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! | 19362 |
| 84 | [re] 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! | 19567 |
| 83 | 전자온도에 대하여 궁금한 사항이 있습니다. [1] | 18768 |
| 82 | 궁금해서요 | 16321 |
| 81 | RF plasma에 대해서 질문드립니다. [2] | 20985 |
| 80 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22860 |
| 79 | self bias (rf 전압 강하) | 26756 |