Others RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유
2022.07.08 16:18
안녕하세요. 최근 RF Power Reflect 감소를 위해 Plasma에 대해 공부하고 있는, 반도체 회사 직장인입니다.
다름이 아니라, RF Power의 Hunting성 Reflect를 감소하기 위해 Gas Flow를 Ramping 형식으로 평가한 자료를 보내되었습니다.
Gas를 이와 같이 점진적으로 증가시키며 Flow할 때와, 한번에 Set Flow를 했을 때
Plasma 형성의 차이와, 왜 이 같은 방식이 RF Power의 Hunting을 감소시키기 위한 방안인지에 대한 상관관계에 대해 궁금증이 생겨 글을 남기게 되었습니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [290] | 77351 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20513 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57432 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68973 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92998 |
180 | 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] | 13084 |
179 | [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] | 12827 |
178 | 플라즈마에 대해서 꼭알고 싶은거 있는데요.. | 12380 |
177 | 플라즈마 살균 방식 [2] | 11525 |
176 | DC bias (Self bias) [3] | 11376 |
175 | 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] | 10407 |
174 | Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] | 9540 |
173 | 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] | 9289 |
172 | 안녕하세요 교수님. [1] | 9080 |
171 | RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] | 9040 |
170 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8949 |
169 | ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] | 8818 |
168 | Lecture를 들을 수 없나요? [1] | 8587 |
167 | 핵융합에 대하여 | 8565 |
166 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8135 |
165 | MFP에 대해서.. [1] | 7850 |
164 | 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] | 6543 |
163 | 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] | 6483 |
162 | O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] | 6478 |
161 | 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] | 6424 |