Others 질문있습니다.

2019.09.30 19:03

sungsustation 조회 수:2593

플라즈마 기초부분에서 에너지 분포와 이온화에 대한 질문입니다.

전자온도와 이온화 에너지가 주어져 있을때 에너지 분포(EEDF)를 이용한다면 전자의 약 %가 이온화에 기여하는지 어떻게 알 수 있는지요?

<구체적인 식이 궁금합니다. 예를 들어 전자온도가 3V , 이온화에너지가 약 15V라 한다면)

일정한 부피에 전자의 갯수가 정해져있을때 온도의  단위가 V(볼트)로 주어진다면 운동에너지를 어떻게 구할 수 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77200
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20462
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57359
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68898
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92945
138 CVD 공정에서의 self bias [1] 3205
137 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3274
136 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3452
135 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3453
134 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3480
133 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3494
132 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3541
131 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3567
130 Descum 관련 문의 사항. [1] 3780
129 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3863
128 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3995
127 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 4051
126 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4256
125 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4875
124 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5222
123 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5714
122 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5949
121 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6324
120 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6422
119 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6467

Boards


XE Login