CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련

2020.01.02 18:46

베컴 조회 수:19792

안녕하십니까?


이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.


그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,

그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.


에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.

(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)


확인 및 답변 부탁드립니다.

새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.

감사합니다.





이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77101
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20404
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57314
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68854
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92869
102 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2410
101 remote plasma 데미지 질문 [1] 14494
100 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1955
99 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1347
98 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1180
97 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2276
96 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 17712
95 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1082
94 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 814
» 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19792
92 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1636
91 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 11581
90 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2388
89 공정플라즈마 [1] 1166
88 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 520
87 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2043
86 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1052
85 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1988
84 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2964
83 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 522
쓰기
태그

Boards

XE Login