Remote Plasma PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활
2023.03.02 15:45
기초적인 질문인데요
PECVD 장비에서 Cleaning을 할때 보통 Remote plasma NF3 + Ar Gas를 사용하는데요
Ar Gas의 정확한 역할을 알고 싶습니다.
Purge나 Carrier 용도라면 N2나 O2도 사용가능한데 굳이 Ar을 사용하는 다른 목적이 있는건지 궁금합니다.
감사합니다.
댓글 1
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