안녕하세요.

s전자에 근무하는 송용재라고 합니다.

Film depo공정을 담당하고 있습니다.

한가지 의문의 들고 여기저기 찾아봐도 속시원한부분이 해결되지 않아 글을 남깁니다..

RF chamber (ICP type) Belljar에서의 arcing은 왜 발생하는것일까요?

arcing과 RF2 Reflect power(plasma power)와의 연관성은 어떻게 되나요?

발생 메커니즘과 RF2 Reflect power 상관관계에 대해 궁금합니다.

답변 기다리겠습니다.

감사합니다. 수고하세요.~

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77303
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20501
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57414
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68950
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92988
106 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4645
105 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4100
104 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3891
103 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3621
102 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3471
101 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3350
100 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 3083
99 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2709
98 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2702
97 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2507
96 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2437
95 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2425
94 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2422
93 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2377
92 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2347
91 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2304
90 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2078
89 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 2014
88 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 2002
87 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1991

Boards


XE Login