CCP CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요?

2021.09.09 15:47

피했습니다 조회 수:3610

안녕하세요 교수님. 언제나 성심성의것 답변해주셔서 공부를 하는데 큰 도움을 받고 있습니다.

 

저는 ICP, CCP 모두 다루는 반도체 장비 회사에 다니고 있는 엔지니어 입니다.

 

관찰해보면 CCP 장비에서 Arcing 문제가 더 많이 발생하고 있습니다.

 

 

어떤 이유 때문에 ICP보다 CCP 구조에서 Arcing이 더 많이 발생하는 걸까요?

 

전극 사이의 거리가 가까워서 그런건가요?

 

 

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77246
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20470
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57377
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68905
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92955
125 plasma 형성 관계 [1] 1585
124 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 728
123 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2406
» CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3610
121 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 888
120 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2338
119 anode sheath 질문드립니다. [1] 1036
118 라디컬의 재결합 방지 [1] 827
117 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1511
116 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3347
115 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 1015
114 플라즈마 챔버 [2] 1292
113 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1692
112 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1417
111 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1414
110 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 829
109 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1540
108 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16685
107 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2371
106 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2507
쓰기
태그

Boards

XE Login