Plasma Source H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련
2020.06.09 18:30
안녕하세요 플라즈마 소스개발을 하고 있는 김상규라고 합니다.
전자기장 시뮬레이션을 통해 ICP Source 를 개발 중에 있습니다만 이해가 되지 않는 부분이 있어 질문 드립니다.
조건 : 1000mm X 1000mm chamber , process gap 250mm , icp source , H-field 관측 , Source only (bias x)
현상 : 상부 Antenna 근처에서 측정(antenna로 부터 30mm) Map 이 center high 인데 substrate (substrate 표면으로 부터 5mm) 로 내려오 면 center 가 low 가 됨. (stage 에 절연층을 쌓아도 비슷함)
질문 : side, 4corner 가 low 로 되는 것은 챔버 벽면으로 electron 이 빠져나가면서 그럴수 있다고 생각 됩니다만
왜 Chamber 벽면에서 가장 먼 가장자리(substrate center position) 의 field 가 약해지는 것 인지 궁금합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77308 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20506 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57415 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68957 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92989 |
» | H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] | 444 |
145 | 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] | 472 |
144 | Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. | 473 |
143 |
plasma striation 관련 문의
[1] ![]() | 504 |
142 |
해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안
[1] ![]() | 521 |
141 | Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] | 526 |
140 | 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] | 531 |
139 | 핵융합 질문 [1] | 578 |
138 | 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] | 582 |
137 |
연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준
[1] ![]() | 605 |
136 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 609 |
135 |
진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문
[1] ![]() | 634 |
134 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 635 |
133 | N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] | 690 |
132 | ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] | 733 |
131 | RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] | 771 |
130 | 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] | 774 |
129 | 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] | 780 |
128 | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 798 |
127 | 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] | 799 |