ICP 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다.
2021.03.02 11:15
안녕하세요. 교수님.
일전에 ICP에서 발생되는 self bias로 쿼츠가 식각될 수 있는지에 대해 문의드렸습니다.
그 때의 답변 감사드립니다.
이번에 여쭙고 싶은것은 그때와 이어지는 내용인데요.
저희의 실험(다층박막) 중 SiO2가 아닌 다른 물질을 증착 중 식각된 쿼츠에서 SiO2가 기판으로 날아와 일부 증착되는 것으로 예상이 됩니다.
그래서 여러가지 특성에 일부 영향을 주는데
쿼츠 쪽에서 발생되는 시각을 줄이기 위해 self bias를 줄일 방안을 생각해보았습니다.
그 중에 ICP영역(코일 전면부)에 영향을 주지 않는 선에서 anode를 장착하여 self bias를 만드는 전자들을 빼내어주는 방안을 생각해보았는데
이 경우 플라즈마 형성에는 문제가 없는지와 이 방법으로 정말 self bias를 줄여 식각현상을 줄이거나 없앨 수 있는지가 궁금합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] | 77138 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20425 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57335 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68873 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92897 |
82 | 가입인사드립니다. [1] | 1880 |
81 | 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] | 1913 |
80 | RF generator 관련 문의드립니다 [3] | 1959 |
79 | Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] | 1984 |
78 | 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] | 1994 |
77 | RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] | 2044 |
76 | ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] | 2278 |
75 | CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] | 2321 |
74 | 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] | 2359 |
73 | RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] | 2384 |
72 | Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] | 2390 |
71 | RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] | 2411 |
70 | 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] | 2502 |
69 | 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] | 2677 |
68 | 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] | 2703 |
67 | 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] | 2969 |
66 | PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] | 3341 |
65 | RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] | 3458 |
64 | CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] | 3590 |
63 | CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] | 3828 |