Plasma Source 플라즈마 챔버

2021.03.18 20:01

도나츠바 조회 수:1297

안녕하십니까. 반도체 업체에 근무하고 있는 회사원입니다.

 

다름이 아니라 플라즈마에 챔버에 대해 질문이 있어 이렇게 글을 올립니다.

 

플라즈마 챔버 설계를 진행하려 합니다.

 

혹시....... Gas를 NF3를 사용하게 되면 스테인리스 챔버로 제작를 진행해도 괜찮을까요? 

 

아니면 알루미늄 챔버로 제작을 해야 하나요?

 

위 두가지 챔버 제작의 경우 사용 불가한 이유가 있으면 알고 싶습니다.

 

너무 궁긍하여 글을 올립니다.

 

답변 부탁드립니다.

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77330
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20510
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57430
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68969
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92996
166 micro arc에 대해 질문드립니다. [1] 33
165 Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [1] 43
164 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] 49
163 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 63
162 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] 83
161 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 105
160 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 134
159 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 137
158 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 146
157 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 149
156 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 167
155 ICP에서 전자의 가속 [1] 196
154 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 225
153 skin depth에 대한 이해 [1] 239
152 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 244
151 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 277
150 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 294
149 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 301
148 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 358
147 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 419

Boards


XE Login