CCP CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요?

2021.09.09 15:47

피했습니다 조회 수:3621

안녕하세요 교수님. 언제나 성심성의것 답변해주셔서 공부를 하는데 큰 도움을 받고 있습니다.

 

저는 ICP, CCP 모두 다루는 반도체 장비 회사에 다니고 있는 엔지니어 입니다.

 

관찰해보면 CCP 장비에서 Arcing 문제가 더 많이 발생하고 있습니다.

 

 

어떤 이유 때문에 ICP보다 CCP 구조에서 Arcing이 더 많이 발생하는 걸까요?

 

전극 사이의 거리가 가까워서 그런건가요?

 

 

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77303
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20501
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57414
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68950
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92988
106 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1227
105 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1239
104 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1239
103 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1252
102 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1281
101 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1288
100 플라즈마 챔버 [2] 1297
99 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1346
98 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1376
97 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1400
96 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1414
95 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1421
94 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1434
93 ICP lower power 와 RF bias [1] 1523
92 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1527
91 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1541
90 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1553
89 plasma 형성 관계 [1] 1593
88 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1644
87 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1658
쓰기
태그

Boards

XE Login