안녕하세요, 교수님.

현재 반도체 업체에서 근무중인 엔지니어입니다.

현재 Clean 조건은 High pressure 및 Low pressure Clean을 사용하고 있습니다.

혹시 High Pressure Clean 진행 간 Showerhead와 Heater간 간격이 조금 더 넓어지면 Clean 효율에 문제가 있을까요?
 Ex) 10mm → 13mm

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] 77146
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20426
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57335
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68880
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92901
22 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 520
21 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 518
20 plasma striation 관련 문의 [1] file 493
19 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 470
18 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 455
17 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 440
16 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 383
15 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 342
14 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 265
13 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 236
12 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 221
11 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 210
10 skin depth에 대한 이해 [1] 207
9 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 188
8 ICP에서 전자의 가속 [1] 181
7 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 143
6 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 132
5 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 109
» Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 105
3 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 99

Boards


XE Login