Remote Plasma remote plasma 데미지 질문

2020.04.18 19:32

룰루랄라 조회 수:14504

안녕하세요 


반도체 공부하고 있는 학생입니다


반도체 관련 논문을 읽다 모르는 것이 있어 질문드립니다

remote plasma  경우 소스와 타겟 물질의 거리가 멀어 direct plasma 보다 플라즈마 데미지가 낮다고 하는데,

제가 알기로는 거리가 멀면 mean free path가 길어지고 플라즈마가 가속되어 에너지가 더 큰 것으로 알고 있습니다

그럼 충돌에너지가 커서 데미지가 더 커지는거 아닌가요..?


자세한 답변 부탁드립니다 감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77220
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68902
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92950
65 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1284
64 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1262
63 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1238
62 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1237
61 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1227
60 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1214
59 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1187
58 공정플라즈마 [1] 1170
57 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1157
56 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1090
55 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1058
54 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 1044
53 anode sheath 질문드립니다. [1] 1034
52 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 1011
51 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 988
50 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] 943
49 Plasma Generator 관련해서요. [1] 914
48 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 888
47 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 856
46 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 849
쓰기
태그

Boards

XE Login