Plasma Source 플라즈마 챔버

2021.03.18 20:01

도나츠바 조회 수:1271

안녕하십니까. 반도체 업체에 근무하고 있는 회사원입니다.

 

다름이 아니라 플라즈마에 챔버에 대해 질문이 있어 이렇게 글을 올립니다.

 

플라즈마 챔버 설계를 진행하려 합니다.

 

혹시....... Gas를 NF3를 사용하게 되면 스테인리스 챔버로 제작를 진행해도 괜찮을까요? 

 

아니면 알루미늄 챔버로 제작을 해야 하나요?

 

위 두가지 챔버 제작의 경우 사용 불가한 이유가 있으면 알고 싶습니다.

 

너무 궁긍하여 글을 올립니다.

 

답변 부탁드립니다.

 

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77095
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20401
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57310
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68852
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92866
102 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4567
101 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4071
100 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3814
99 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3585
98 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3452
97 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3339
96 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2959
95 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2700
94 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2673
93 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2502
92 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2410
91 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2388
90 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2377
89 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2354
88 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2319
87 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2275
86 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2043
85 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1987
84 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1983
83 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1955
쓰기
태그

Boards

XE Login