Plasma Source 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할.
2023.06.26 10:34
안녕하세요. 현재 ETCH 공정엔지니어를 직업으로 하고 있습니다.
다름이 아니라 ETCH 공정에 많은 Route 중 Metal Etch 공정에 관해 질문 드립니다.
METAL을 ETCH 할 경우 주 GAS로는 BCL3 + CL2 를 이용하고 추가적으로 N2, CHF3, CH4의 부수적인 GAS를 사용 합니다.
이러한 GAS 중 CH4 GAS의 용도 및 역할에 대해서 상세히 알고 싶습니다..
도움 부탁드립니다. 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77014 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20347 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57269 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68814 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92814 |
142 | F/S (Faraday Shield) | 21525 |
141 | 상압 플라즈마 관련 문의입니다. [1] | 21519 |
140 | Xe 기체를 사용한 플라즈마 응용 | 21322 |
139 | Lissajous figure에 대하여.. | 20632 |
138 | 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] | 20314 |
137 | DBD플라즈마와 플라즈마 impedance | 20217 |
136 | 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] | 19791 |
135 | 상압플라즈마에서 온도와의 관계를 알고 싶습니다. | 19770 |
134 | 대기압 상태의 플라즈마 측정 | 19734 |
133 | AC 플라즈마에서의 전압/전류 형상... | 19400 |
132 | 기중방전에서 궁금한것이 | 19164 |
131 | RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] | 18880 |
130 | surface wave plasma 에 대해서 [1] | 18556 |
129 | DBD plasma | 18097 |
128 | capacitively/inductively coupled plasma | 17820 |
127 | Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. | 17707 |
126 | 유전체 플라즈마 | 17567 |
125 | RF 변화에 영향이 있는건가요? | 17513 |
124 | 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] | 16672 |
123 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 16515 |