ICP Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다
2024.06.11 03:24
안녕하세요 교수님
제목에서 말씀드린 것 처럼 Ion 입사각을 확인하고 싶은데 문제가 있습니다. Etch 설비라면 Profile을 통해 알 수 있겠으나, 제가 맡고 있는 설비는 CVD 설비 입니다. ICP TYPE에서 DEP 과 Etch 가 동시에 일어나 Gapfill 목적으로 사용되는 설비입니다. 그렇다보니 Etch 처럼 Profile에서 Ion 의 입사각도가 드러나지 않는데, 어떻게하면 확인해볼 수 있을지 조언 부탁드립니다. 확인하는 목적은 Outer 영역에 Ion flux 가 집중되는 것으로 보여 확인하기 위함입니다. 늘 감사드립니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77330 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20510 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57430 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68968 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92995 |
166 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95987 |
165 | Plasma source type | 79733 |
164 | Silent Discharge | 64567 |
163 | 대기압 플라즈마 | 40728 |
162 | ICP 플라즈마에 관해서 [2] | 32080 |
161 | 플라즈마를 이용한 오존 발생장치 | 28971 |
160 | DBD란 | 27790 |
159 | PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] | 25002 |
158 | 플라즈마가 불안정한대요.. | 24538 |
157 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24447 |
156 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 24402 |
155 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23446 |
154 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23286 |
153 | No. of antenna coil turns for ICP | 23153 |
152 | CCP/ICP , E/H mode | 23129 |
151 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 23129 |
150 | 플라즈마의 발생과 ICP | 22176 |
149 | glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 | 21789 |
148 | ccp-icp | 21593 |
147 | 대기압플라즈마를 이용한 세정장치 | 21555 |