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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다.
[1] | 8155 |
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ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요?
[1] | 24413 |
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상압 플라즈마 방전에 관한 문의
[1] | 20315 |
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[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 24375 |
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대기압 플라즈마
| 40719 |
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플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다.
[1] | 16050 |
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광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
| 23427 |
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surface wave plasma 에 대해서
[1] | 18559 |
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CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
| 23278 |
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상압 플라즈마 관련 문의입니다.
[1] | 21522 |
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PECVD 매칭시 Reflect Power 증가
[2] | 24994 |
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RF를 이용하여 Crystal 세정장치
[1] | 18881 |
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30 |
glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압
| 21779 |
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대기압플라즈마를 이용한 세정장치
| 21548 |
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대기압 상태의 플라즈마 측정
| 19735 |
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Lissajous figure에 대하여..
| 20633 |
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RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이
| 95819 |
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Plasma source type
| 79717 |
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CCP 의 electrode 재질 혼동
| 16517 |
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플라즈마가 불안정한대요..
| 24530 |
