개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:60517 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [327] 98072
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23838
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60517
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72383
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 103016
172 RF BIAS REDLECT POWER HUNTING 문제 [1] 114
171 CCP 장비 하부 전극 dc 펄스 전력 [1] 252
170 동일한 RF방전챔버에서 화학종별 이온화율에 대한 질문 [1] 167
169 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. [1] 352
168 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 653
167 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 548
166 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 510
165 Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [표면파의 전파] [1] 236
164 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 493
163 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어] [1] 283
162 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 372
161 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 407
160 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [DBD 방전과 DC breakdown] [1] 360
159 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 428
158 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 660
157 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 417
156 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 339
155 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 715
154 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 580
153 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 406

Boards


XE Login