Plasma Source RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화.

2018.11.20 16:00

RFPlasma 조회 수:1211

안녕하세요 저는 RF Plasma 관련 직종에 근무하는 직장인 입니다.

 RF generator에서 Frequency tuning (주파수 가변)  기능을 사용하고 있는데, 주파수 변화에 따라서 Matcher에서 읽혀지는 Vrms 값이 심하게 변화하는것을 확인하였습니다.

Frequency 높아질수록 (13.56Mhz 기준) Vrms 높아짐 / Irms 큰변화 없음 / Phase 높아 지는데, 왜 Frequency 변화에 따라 Vrms와 Phase가 변하고, Irms는 큰 변화가 없는 것일까요?

주파수에 따른 Vrms, Irms, Phase의 연관성을 알수 있을까요.

조언 부탁드립니다.



이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77065
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20383
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57292
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68838
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92841
102 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2410
101 remote plasma 데미지 질문 [1] 14493
100 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1952
99 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1341
98 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1180
97 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2274
96 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 17711
95 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1082
94 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 811
93 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19792
92 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1635
91 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 11567
90 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2385
89 공정플라즈마 [1] 1165
88 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 520
87 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2042
86 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1051
85 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1987
84 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2949
83 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 522
쓰기
태그

Boards

XE Login