안녕하십니까. 플라즈마 관련 회사를 다니는 사람입니다.

 

쉬스에 관해서 조금 공부를 하고 있습니다..

 

1. ccp방식에서 전극을 캐소드, 애노드 라고 표현하는 이유를 알고 싶습니다. 배터리와 같은 관점으로 전류가 나오는 곳을 캐소드라고 하는건가요?

 

2. 캐소드 쉬스가 애노드 쉬스 보다 두꺼운 이유는 무엇인가요?(단순히 A/C ratio때문인지...?), 두 전극의 면적차이가 같을 경우에도... 쉬스의 두께 차이가 존재하나요?

 

인터넷으로 블로그에 나와있는 글을 봤는데 거기서는, "양이온은 애노드로 접근하기 힘들겠지만, 전자들은 이보다 훨씬 빠르게 애노드로 들어갈수 있기 때문에, 그만큼 애노드에서는 중화되버리고, 전위의 차이가 매꿔지게 된다. 즉 , 쉬스 포텐셜의 차이가 줄어들게 되고, 얇은 쉬스가 될수 밖에 없다" 라고 되어있더라구요... 오히려 더 헷갈리는거 같습니다..

 

(쉬스라는것은 전자와 이온의 속도차이에 의해서, 전극 표면에 쌓인 음전하들로 대전되어, 전위가 플라즈마 보다 낮고, 전자는 들어가기 힘들고, 양이온은 많이 들어가는... 그러한 공간을 말하는것 아닌가요?)

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 101883
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24461
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61122
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73154
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105318
133 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas] [1] 1816
132 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1359
131 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [플라즈마 응용기술] [1] 1038
130 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp] [1] file 7751
129 N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma] [1] 1998
128 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 856
127 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 1228
126 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [Atmostpheric pressure plasma jet] [1] 1197
125 plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수] [1] 2020
124 ICP 대기압 플라즈마 분석 [Collisional plasma, LTE 모델] [1] 953
123 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [Standing wave effect] [1] 2899
122 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전] [3] 4171
121 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 1162
120 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선] [1] 2776
» anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1439
118 라디컬의 재결합 방지 [해리 반응상수] [1] 1090
117 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 2029
116 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [소수/친수성 조절 연구] [1] 3568
115 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1376
114 플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건] [2] 1659

Boards


XE Login